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美國GESUEZ蘇伊士EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3MK-3
詳細信息| 詢價留言加工定制:否 型號:MK-3 品牌:美國GESUEZ蘇伊士 操作壓力:1 Mpa 水電阻率:1 出水量:1 外形尺寸:50*60*200 cm 電壓:10 v 功率:1 w 脫鹽率:99 % 單機出力:3T /h E-CELLMK-3:EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模? EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3
EDI模塊MK-3美國GEEDI模塊美國GEMK-3超純水工業(yè)用去電離子
安經(jīng)理 一三三 九二八五 零六六四一、EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3簡介
MK-3 pharm HT
*高進水溫度、:45℃;
消毒溫度、:80-85℃;
*大進水壓力:7bar;
正常流量時壓降范圍:1.4-2.1bar;
產(chǎn)品水流量:1.6~4.6m3/h。二、EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3用于:
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為電力、半導體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水;
連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級質(zhì)量的超純水;
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無需對模塊內(nèi)的混床樹脂進行酸堿再生;
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保證不漏水;
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無需鹽水注入和濃水循環(huán),簡化了設計
三、GEEDIMK-3pharmHT高溫熱水消毒EDI膜堆超純水edi模塊說明和用途
GE高純水制取設備EDI模塊GEEDI模塊單模塊3m3/hMK-3EDI模塊電源超純水工業(yè)用去電離子為電去離子(EDI)模塊,利用電流對反滲透產(chǎn)水進行去離子和拋光處理。E-Cell-3X產(chǎn)水為超純水,適用于當今對水質(zhì)要求苛刻的行業(yè)。
三、GEEDIMK-3pharmHT高溫熱水消毒EDI膜堆超純水edi模塊質(zhì)量保證
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具有CESUEZ、UL和CSA標識;
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由通過ISO 9001:2000認證的工廠制造
- EDI模塊規(guī)格齊全,單個模塊產(chǎn)水量從 10 L/h到10m3/h。數(shù)十個模塊并聯(lián)可以產(chǎn)生一個幾乎無限規(guī)模的系統(tǒng)。在適當操作條件下運行,模塊可以生產(chǎn)出電阻率15—18 M的高純水。
- 微型:10 L/h,30 L/h,60 L/h,100 L/h,200 L/h
- 標準型:0.5 m3/h,1m3/h,2 m3/h,3 m3/h
- 大型:6 m3/h,8 m3/h,10 m3/h
1、淡水進水淡水室后,淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生離子交換,從而從水中脫離;2、被交換的離子受電性吸引作用,陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移,陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移,并進入濃水室從而從淡水中去除。3、離子進入濃水室后,由于陽離子無法穿過因離子交換膜,因此其將被截留在濃水室,同樣,陰離子無法穿過陽離子交換膜,被截留在濃水室,這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊;與此同時,由于進水中的離子被不斷的去除,那么淡水的純度將不斷的提高,待由模塊出來的時候,其純度可以達到接近理論純水的水平;4、水分子在電的作用下被不斷的離解為H+和OH-,H+和OH-將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)的再生。 過程1和過程3是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程,這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。 -
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留 言
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